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Resinas transparentes Resina de alta transparencia 2.0 XC-CLTR71
XC-CLTR71Resinas transparentes

Resina de alta transparencia 2.0

高透树脂 2.0

Plataformas 405 nm · sin acumulación

TransparenteCarcasas de dispositivos acústicosVisualización de flujo internoPiezas de demostración transparentes
1000 g / frasco 385–405 nm LCD / DLP 1 año, guardar alejado de la luz en lugar fresco
02Rendimiento clave
40MPaResistencia a la flexión
26%Alargamiento en rotura
28J/mResistencia al impacto
84Shore DDureza
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Descripción

Resumen

Desarrollada para fuentes de luz de 405 nm, este grado resiste la acumulación de resina durante la impresión y ofrece buena resistencia en verde para una mayor tasa de éxito. La claridad se acerca al acrílico, la resistencia al envejecimiento UV limita el amarilleo y la resistencia al impacto mantiene intactas las piezas transparentes de uso final cuando se caen.

  • Tras la impresión es necesario lijar con cuidado y aplicar barniz para alcanzar una buena transparencia.
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Aplicaciones

Aplicaciones
Carcasas de dispositivos acústicosVisualización de flujo internoPiezas de demostración transparentes
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Datos técnicos

Datos técnicos
Resistencia a la flexiónFlexural Strength40MPa
Módulo de flexiónFlexural Modulus1500MPa
Resistencia a la tracciónTensile Strength35MPa
Módulo de tracciónTensile Modulus1000MPa
Alargamiento en roturaElongation at Break26%
Resistencia al impactoImpact Strength28J/m
ViscosidadViscosity1000cps
DurezaHardness84Shore D

Los valores anteriores son los documentados en nuestros datos internos. Nada se extrapola. Las condiciones y normas de ensayo formales figuran en la TDS.

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Impresión y post-procesado

Proceso
Fuente de luzFuente de luz385–405nm LCD / DLP
ExposiciónExposición2–3 s @ 4000–5000 μW/cm²
Altura de capaAltura de capaNo disponible
Post-curadoPost-curadoLijar y aplicar barniz

La altura de capa y la exposición dependen de la intensidad de la lámpara, la temperatura de la resina y la sección transversal; los parámetros no indicados no se recomiendan.

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