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Alta temperatura e fusione Resina per attrezzature rapide ad alta temperatura XC-HTHR25
XC-HTHR25Alta temperatura e fusione

Resina per attrezzature rapide ad alta temperatura

耐高温快速模型树脂

280 °C picco · 200 °C continuo

Resistente al caloreStampi HTVMaster per stampi in siliconeAttrezzature per stampaggio a iniezione
1000 g / flacone 385–405 nm LCD / DLP 1 anno, conservare al riparo dalla luce in luogo fresco
02Prestazioni chiave
280°CTemperatura di rammollimento (HDT)
90MPaResistenza a flessione
90Shore DDurezza Shore D
3500MPaModulo elastico
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Panoramica del prodotto

Panoramica

Una resina per attrezzature rapide ad alta temperatura valutata per un picco di 280 °C e in grado di mantenere 200 °C continui senza deformazione né crepe. Le stampanti consumer e le stazioni di polimerizzazione bastano per raggiungerne le prestazioni. Le applicazioni includono stampi HTV, master per stampi in silicone e attrezzature per stampaggio a iniezione.

  • Al di sotto di 20 °C la resina cristallizza lentamente: riscaldare a 60 °C per 3 ore prima dell'uso e lasciarla raffreddare sotto i 30 °C.
  • Prima di usare uno stampo stampato, applicare agente distaccante sulla cavità e sui canali di colata per facilitare lo sformo.
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Applicazioni

Applicazioni
Stampi HTVMaster per stampi in siliconeAttrezzature per stampaggio a iniezione
280 °C si riferisce all'HDT a breve termine con carico di 0,45 MPa; 200 °C è la temperatura continua senza deformazione né crepe
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Dati tecnici

Dati tecnici
Resistenza a flessioneFlexural Strength90MPa
Modulo a flessioneFlexural Modulus2800MPa
Resistenza alla trazioneTensile Strength60MPa
Modulo elasticoTensile Modulus3500MPa
Allungamento a rotturaElongation at Break5%
Temperatura di rammollimento (HDT)HDT280@0.45 MPa
ViscositàViscosity900cps
Durezza Shore DHardness90Shore D

I valori sopra sono quelli documentati nel nostro database interno; le voci mancanti non vengono stimate. Condizioni di prova e norme sono riportate nel TDS formale.

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Stampa e post-trattamento

Processo
Fonte di luceFonte di luce385–405nm LCD / DLP
EsposizioneEsposizione2–3 s @ 4000–5000 μW/cm²
Altezza stratoAltezza stratoNon disponibile
Post-indurimentoPost-indurimentoNon disponibile

Altezza strato ed esposizione dipendono dall'intensità della lampada, dalla temperatura della resina e dalla sezione; i parametri non elencati non sono consigliati.

XRESIN · Vendite e ingegneria

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